CCP電容耦合式等離子清洗機和ICP電感耦合等離子清洗機

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2024-03-28

根據(jù)耦合方式分類，等離子清洗機大致可以分為兩種，一種是CCP電容耦合等離子清洗機另一種是ICP電感耦合等離子清洗機。電容耦合大多采用內(nèi)置的平板電極模式，放電時在兩極板上加射頻電源，在兩極板間氣體激發(fā)產(chǎn)生等離子體。與之不同的是電感耦合大部分利用外電極放電，其原理是應用電磁感應將感應線圈纏繞在放電腔體外部激發(fā)出二次電場，從而激發(fā)腔體內(nèi)的氣體產(chǎn)生等離子體。這兩種耦合方式各有優(yōu)劣。

電容耦合式等離子清洗機 Capacitively Coupled Plasma

電容耦合式等離子體是發(fā)展最早、應用最廣泛的等離子產(chǎn)生方式，大量應用于清洗、刻蝕和表面改性。電容耦合式等離子體又稱電場耦合式等離子體，其產(chǎn)生機理是在低氣壓條件下，加在兩極板之間的高頻電場電離氣體，產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體。由于電容極板位于真空室內(nèi)，帶電粒子在電場作用下以較高的動能撞擊極板，非常容易發(fā)生極板濺射，限制了其在高潔凈、無污染環(huán)境中的應用。

電容耦合式等離子清洗機它的優(yōu)點是：在電極之間獲得大面積較均勻的電磁場，產(chǎn)生均勻性較好的等離子體，可應用于大面積的清洗工藝。

電感耦合式等離子清洗機 Inductively Coupled Plasma

電感耦合式等離子清洗機是等離子研究后期出現(xiàn)的一種新型的方式，其機理是感應線圈中的交流電場，在反應室內(nèi)耦合感應產(chǎn)生二次電場，在低氣壓狀態(tài)下激發(fā)產(chǎn)生等離子體。電感耦合式等離子體具有離子能量損失小、效率高、密度高等優(yōu)點，是極具發(fā)展?jié)摿Φ牡入x子體。電感耦合式等離子體經(jīng)多年研究，已在光譜分析和微電子刻蝕中成熟應用，電感耦合式等離子體的電子回旋結(jié)構(gòu)與微波等離子系統(tǒng)非常相似，可以用于高端表面處理，例如刻蝕、濺射等，與微波等離子相比，電感耦合式等離子體結(jié)構(gòu)簡單，成本低，因此研究廣泛開展。電感耦合式等離子體很容易實現(xiàn)外電極結(jié)構(gòu)，這種結(jié)構(gòu)應用于等離子清洗，可徹底解決了電容耦合式清洗設備的極板濺射問題。

電感耦合式等離子清洗機的優(yōu)勢在于反應室內(nèi)無電極，無電極污染，且離子能量高，效率大大提升，同時離子密度也比電容耦合式提高1～2個數(shù)量級。電感耦合式等離子體離子的運動加速方向與被清洗件的切線方向平行，因此不會垂直轟擊被清洗件，對元件無損傷。

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等離子表面處理