等離子體產生方式
等離子體產生方式有很多種，例如氣體放電、射線輻射、光電離、激光和熱電離等。其中氣體放電是最容易實現(xiàn)、應用最廣泛的產生方式。氣體放電的等離子體因電場和頻率的不同，具有不同特性，所產生的等離子體可用于等離子清洗、刻蝕和表面改性。氣體放電按電場頻率區(qū)分，分為直流放電、低頻放電、高頻放電、微波放電等多種類型。
以上四種等離子產生方式是目前工業(yè)應用中最常見的，根據(jù)不同的等離子特性應用于不同場合。就清洗應用而言，直流輝光放電等離子密度低、效率低，且容易產生二次濺射污染；微波放電等離子性能最佳，但設備結構復雜、制造和使用成本高；射頻放電方式介于兩者之間，離子能量和密度比直流輝光放電高，且等離子穩(wěn)定，而成本與微波放電裝置相比更低，設備結構更簡單，因此射頻放電是等離子清洗設備的最佳產生方式。
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