光學鏡片（玻璃）鍍膜前等離子清洗能夠提高膜層附著力

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-11-08

隨著科技的發(fā)展，各類光學系統(tǒng)中對光學鍍膜件的要求越來越高，而基底表面的清潔程度直接影響所鍍制薄膜的質量，包括其牢固性、環(huán)境可靠性等各種要求。光學鏡片鍍膜前的清洗是光學元件制造過程中的重要環(huán)節(jié)，為了提高光學件在鍍膜前的清潔度，滿足產品在系統(tǒng)上的可靠性要求，在實際應用中，有各種清洗方法，包括化學清洗、激光清洗、超聲波清洗、等離子清洗等。清洗工藝也朝著綠色環(huán)保、全自動、高效、低成本方向發(fā)展。在實際操作中，鍍膜前的很多清洗工藝也都綜合運用多種清洗方法，以滿足光學鍍膜元件的可靠性要求。

等離子清洗技術

等離子體清洗指在真空環(huán)境下，利用氣體放電產生等離子體，同時基體上施加負偏壓，提供給等離子體轟擊能量，轟擊基體表面達到去除污染物的目的。等離子體清洗是鍍膜前獲得清潔表面、提高膜基結合強度必不可少的工藝。等離子體轟擊不僅會去除表面污染物，還可能影響基體的微結構及性能。

鍍膜之前對基體進行等離子清洗是必不可少的環(huán)節(jié)。等離子體由帶正電的粒子與帶負電的粒子構成，整體呈電中性的粒子集合體。因為電子質量很小，等離子體與材料表面的作用通常是指陽離子的轟擊作用，陽離子在電場和磁場作用下加速沖向帶負電的基體表面，此時陽離子具有相當大的動能，與基體發(fā)生一系列反應。

等離子轟擊材料表面過程中的影響有如下方面：（a）濺射清洗，入射離子轟擊材料表面，撞擊去除表面吸附的氣體分子及污染物。（b）產生缺陷，如果轟擊離子傳遞給晶格原子的能量超過原子的離位閥，則晶格原子可被離位到間隙位置并形成點缺陷，如果能量小于離位閥（約25eV），則產生熱振動，使得表面溫度升高。（c）晶體破壞，如果離子轟擊產生穩(wěn)定的缺陷，則表面結構將由晶體結構變成非晶態(tài)結構。（d）改變表面形貌，對于材料表面，表面的離子轟擊會造成表面形貌變化，改變材料表面粗糙度。（e）表面潤濕性提高，玻璃底板由于經過等離子清洗而呈現很強的親水性。

將鍍膜玻璃放入真空等離子清洗機中進行清洗和改性，可去除光學玻璃鏡面表面殘留的一些細微污染物以及分子原子基團等，離子轟擊使表面粗糙，并使得后續(xù)鍍膜玻璃表面具有很強的親水性能，這種凹凸不平和強親水性能的表面,有利于光學玻璃鍍膜中顆粒的沉積,提高鍍膜的粘結性和均勻性。