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等離子清洗在倒裝芯片封裝底部填充工藝流程中的作用

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2023-07-21
底部填充工藝作為倒裝芯片封裝中用來提高連接凸點(diǎn)可靠性的一種重要方法正受到越來越多的關(guān)注和研究。

底部填充的定義

底部填充一般的定義是指利用化學(xué)膠水(主要成份是環(huán)氧樹脂)對采用倒裝互連模式的芯片進(jìn)行下填充,然后通過加熱方式使膠水固化,是用來增強(qiáng)倒裝芯片封裝產(chǎn)品中連接凸點(diǎn)的抗應(yīng)力能力和抗跌落性能的一種技術(shù)。

部填充工藝的主要作用

底部填充的作用主要有如下幾點(diǎn):(1)為倒裝互連系統(tǒng)中的連接凸點(diǎn)提供有效的機(jī)械支撐;(2)保護(hù)倒裝互連系統(tǒng)中的連接凸點(diǎn)免受環(huán)境中的濕氣,雜質(zhì)以及其他元素的影響;(3)將產(chǎn)品所受到的熱應(yīng)力均勻地分布在芯片和基板上,防止連接凸點(diǎn)由于熱疲勞失效,提高產(chǎn)品的可靠性和服役時(shí)間。

底部填充工藝的類型

底部填充工藝中共有三類填充方式,分別是壓力驅(qū)動式、非流動式和毛細(xì)驅(qū)動式三種,圖1-1為三種填充方式的示意圖。這三種方式在原理和方法上有所差別,當(dāng)今行業(yè)中主要使用的是毛細(xì)驅(qū)動式填膠,該方式是利用點(diǎn)膠設(shè)備在產(chǎn)品邊緣噴射底填膠,膠水在流體表面張力和“毛細(xì)現(xiàn)象”的共同作用下,流進(jìn)布滿著連接凸點(diǎn)的芯片底部,填充芯片和基板之間的所有縫隙,約九成以上的封測企業(yè)采用這種填膠方式。
常見的三種底部填充方式
圖1.1 常見的三種底部填充方式

 
底部填充工藝的流程

一套嚴(yán)格且完整的底部填充工藝在實(shí)施過程中一般包含預(yù)烘烤、清洗、填充、固化和檢驗(yàn)等步驟,每個(gè)步驟的需要達(dá)到目的不同,工藝實(shí)施過程中需要對參數(shù)和操作規(guī)范性進(jìn)行嚴(yán)格把控,否則容易引入額外異常,達(dá)不到預(yù)期的點(diǎn)膠效果。

等離子清洗在底部填充工藝流程中的作用

等離子清洗是清洗設(shè)備通過內(nèi)部的電磁場使氬氣或氫氣等氣體激發(fā)出等離子態(tài),等離子體再去轟擊待清洗產(chǎn)品的表面,通過轟擊過程中發(fā)生的物理和化學(xué)反應(yīng),達(dá)到清洗的目的。其中,物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面最終被真空泵吸走?;瘜W(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和表面的污染物反應(yīng),生成易揮發(fā)性的物質(zhì),再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。等離子清洗的主要目的是改善基板表面的粗糙度,清除污染和雜質(zhì),為底部填充過程提供一個(gè)干凈的環(huán)境,同時(shí)隨著基板表面粗糙度的改善,膠液的流動性會更好,下圖2為基板等離子清洗前后水滴角的變化。
等離子清洗前后外殼表面的水滴角對比
圖2 等離子清洗前后外殼表面的水滴角對比
以上資料由國產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技整理編輯?。?!通過等離子清洗來控制倒裝后的外殼表面一致性,以此來避免外殼表面存在一些對底部填充起到阻礙作用的物質(zhì)。等離子清洗可以有效提升外殼表面的浸潤性,有利于底部填充膠的擴(kuò)散。
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