ITO陽(yáng)極等離子處理
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2024-10-09
有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)已經(jīng)成為新一代的平板顯示技術(shù)。它具有主動(dòng)發(fā)光、驅(qū)動(dòng)電壓低、響應(yīng)速度快，柔性可彎曲，超輕，超薄等優(yōu)點(diǎn)。0LED器件一般為多層結(jié)構(gòu)，其中包括陰極、陽(yáng)極、電子傳輸層、空穴傳輸層和發(fā)光層。ITO同時(shí)具有透光性高、電阻率低等優(yōu)點(diǎn)，因此大多數(shù)的0LED器件均使用ITO作為陽(yáng)極。
隨著具有優(yōu)異性能的有機(jī)材料的開(kāi)發(fā)，有機(jī)電致發(fā)光器件得到了迅速的發(fā)展，并已在顯示器應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)工業(yè)化。然而，器件的效率和穩(wěn)定性仍需要得到改善，這些都與電荷的傳輸能力和電極的界面修飾有關(guān)。載體的注入效率直接決定了器件的發(fā)光特性，因此通過(guò)電極修飾提高載體注入效率是一個(gè)研究熱點(diǎn)。目前IT0陽(yáng)極修飾主要有等離子體處理、UV紫外光處理、分子自組裝以及引入緩沖層等方法。其中,氧等離子處理是最簡(jiǎn)單最易操作的方法，本文對(duì)0LED器件中IT0陽(yáng)極修飾的等離子處理方法和原理進(jìn)行了介紹。
等離子體處理包括氧等離子體處理、CF,H等離子體處理、氬等離子體處理、氮等離子體處理等。其中氧等離子體處理目前是最常用也是最簡(jiǎn)單有效的方法，其具體方法將氣引入到電感耦合或者電容耦合產(chǎn)生的射頻能量場(chǎng)中，通過(guò)氧氣電離而導(dǎo)致等離子體的產(chǎn)生，提高IT0表面原子的含量。氧等離子體的組成相對(duì)復(fù)雜，包括未被離子化的氧原子、氧分子和電離產(chǎn)生的氧離子以及混合的復(fù)合基團(tuán)，可以很容易地與其他原子反應(yīng)形成新的價(jià)鍵或改變其他原子的鍵能。IT0的化學(xué)組成元素是氧、銦、錫，被氧等離子氣包圍的IT0，其表面的銦和錫會(huì)與氧離子形成新的價(jià)鍵改變?cè)兼I能，并改善IT0的表面功函數(shù)。另外，氧等離子體的活性基團(tuán)還可以分解和除去IT0表面上的有機(jī)污染物等雜質(zhì)。
Ar、N2等離子處理的原理是通過(guò)去除陽(yáng)極ITO 表面所吸附的氧來(lái)達(dá)到清潔和提高的目的。
另一種比較常用的方法是CFH等離子體處理，該方法是將三氟甲烷氣體引入低頻能場(chǎng)中產(chǎn)生等離子體，進(jìn)而在IT0的表面上進(jìn)行聚合反應(yīng)以形成氟取代的碳聚合物膜CF。形成的膜CF膜有著低電阻率和高離解能的特性，不僅能防止銦原子從ITO中擴(kuò)散到活性有機(jī)層，還能夠修飾IT0表面以提高空穴的注入效率。
本文由等離子清洗機(jī)廠家納恩科技整理編輯，利用等離子處理ITO陽(yáng)極具有顯著的優(yōu)點(diǎn)，成本低、無(wú)廢棄物、無(wú)污染，并且有時(shí)可得到傳統(tǒng)的物理和化學(xué)方法難以得到的處理效果。，從而達(dá)到清潔和提高的目的。
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