等離子體清洗技術分類

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-07-31

等離子體是一種經過電離后的特殊氣體狀態(tài)，組成這種電離氣體的主要成分有激發(fā)態(tài)的原子或分子、中性的原子或分子和離化的原子或分子。

等離子體清洗技術的基本原理主要是利用放電擊穿氣體時所產生的高能量活化等自由基（正離子、負離子、電子、光子、激發(fā)態(tài)的分子、基態(tài)分子等）直接作用于被清洗物質表面并與吸附化合物發(fā)生物理、化學作用而達到清潔表面的目的。

等離子體清洗技術分類

等離子體清洗技術可以根據(jù)等離子體的放電方式（CCP、ICP、ECR）分為CCP等離子體清洗技術、ICP等離子體清洗技術、ECR等離子體清洗技術。

CCP等離子體清洗技術原理
容性耦合放電（CCP）最初產生用于工業(yè)生產的薄膜沉積和等離子體刻蝕，其主要結構為兩個平行極板（陽極板和陰極板），一平行極板加13.56MHz的射頻電流，另一平行極板接地，射頻能量主要通過兩極板的電勢差耦合到等離子體中，使其電離。但容性耦合的電離率很低，因此等離子體密度（電子密度）一般為10¹⁴-10¹⁶m^-3，電子溫度在2-4eV之間。

ICP等離子體清洗技術原理
ICP又叫電感耦合等離子體，其利用感生電磁場（感性耦合）放電方式獲得的等離子體密度往往比電勢差（容性耦合）放電方式獲得的等離子體密度要高，通常電子密度在10¹⁶m^-3-10¹⁸m^-3區(qū)間內，電子溫度在2-4ev區(qū)間內。在感性耦合放電模式（H模式）中，射頻能量主要通過通電線圈饋入到等離子體中，此時容性耦合放電方式的電勢差不占主導，而通過通電線圈產生的感生電磁場激發(fā)等離子體。

ECR等離子體清洗技術原理
微波加熱放電方式常見的是ECR放電（電子回旋共振放電）。其主要放電原理為射頻能量以電磁波的方式耦合到等離子體中。例如ECR等離子體放電中，在磁場作用下，電磁波在等離子體中傳播，最后電磁波能量被等離子體吸收，ECR所需要的磁場條件為幾千高斯、所需的頻率為GHz量級。波加熱等離子體放電獲得等離子體具有高密度，低耗能的特性。其獲得的等離子體密度通常在10¹⁸m^-3-10²⁰m^-3范圍內，電子溫度在1-4eV范圍中。

以上就是國產等離子清洗機廠家納恩科技關于等離子體清洗技術分類的介紹，以上分類依據(jù)是按照等離子體的放電方式不同而分類的，根據(jù)等離子體產生的壓力的不同，等離子體清洗技術還可分為低壓等離子體清洗技術和常壓等離子體清洗技術。