三
| 工作臺尺寸 | Φ300mm（11.8inch） |
| 有效處理尺寸 | Φ280mm(loading up to 8" round substrate) |
| 冷卻方式 | 水冷固定電極 |
| 等離子電源 |
13.56MHz/600W連續(xù)調節(jié) 自動阻抗匹配可連續(xù)長時間工作 |
| 氣體流量控制 |
0-500sccm MFC氣體質量流量計精確控制流量 |
| 反應氣體 |
標準配置2路，最大可配置4路。 O2、Ar、N2，CF4，Cl2等氣體 |
| 刻蝕方式 | RIE |
| 真空泵 | 30M3/H（干泵） |
| 真空測定系統(tǒng) | 1.0×105～1×10-1 Pa |
| 充氣系統(tǒng) | N2+節(jié)流閥控制 |
| 抽真空時間 | 60s以內 |
| 破真空時間 | ≤15s |
| 輸入氣壓檢測系統(tǒng) | 氣壓自動報警 |
| 電源 | AC220V |
| 控制系統(tǒng) |
PLC+人機交互觸摸屏 |
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133-8039-4543