半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)及其優(yōu)勢(shì)介紹

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-08-25

半導(dǎo)體集成電路制程及封裝過(guò)程中，由于指印、助焊劑、焊料、劃痕、沾污、微塵、樹(shù)脂殘跡、自熱氧化、有機(jī)物等，在器件和材料表面形成各種各樣的污染物，包括氟、鎳、光刻膠、環(huán)氧樹(shù)脂和氧化物等，這些污染物的存在可能導(dǎo)致虛焊、壓焊點(diǎn)易于脫落、鍵合強(qiáng)度大為減小等諸多問(wèn)題，從而影響產(chǎn)品的質(zhì)量。集成電路制造設(shè)計(jì)流程如下圖。

圖一半導(dǎo)體集成電路制造設(shè)計(jì)路程圖

半導(dǎo)體新型材料的研發(fā)及應(yīng)用大大的加快了集成電路的發(fā)展，但無(wú)論使用何種材料，各種各樣的污染物依舊是集成電路飛速發(fā)展道路上的一條攔路虎。傳統(tǒng)的去除污染物的方式包括：

1、機(jī)械擦洗：使用天然或人造纖維制成的刷輪或刷輥對(duì)零件表面進(jìn)行加工的過(guò)程。可以干刷，也可以濕刷．刷輪的材料不同，其用途也不同。清洗效果有限，且容易對(duì)零件造成損壞。

2、化學(xué)清洗：利用有機(jī)溶液或無(wú)機(jī)酸堿溶液清除物體表面污垢。去污所依靠是氧化還原反應(yīng)的作用。其缺點(diǎn)是如果對(duì)化學(xué)清洗液選擇不當(dāng)，會(huì)對(duì)清洗物基體造成腐蝕破壞，產(chǎn)生損失．化學(xué)清洗產(chǎn)生的廢液排放也是造成環(huán)境污染的原因之一，要進(jìn)行污染物的二次處理。

等離子清洗作為一種干法清洗方式，可以有效去除這些污染物，改善材料表面性能，增加材料表面能量，從而增加焊接、粘結(jié)強(qiáng)度，最終提升產(chǎn)品可靠性。與傳統(tǒng)清洗工藝相比，等離子清洗具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1、等離子清洗設(shè)備可以長(zhǎng)期使用，清洗過(guò)程中不需要使用有機(jī)溶劑，因而它的運(yùn)行成本較低；

2、清洗后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)過(guò)干燥處理工序，所以清洗效率高：不直接接觸工件，沒(méi)有機(jī)械作用力；等離子體的方向性不強(qiáng)，因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，不必考慮清洗物體形狀的影響，清洗甚至可以達(dá)到原子級(jí)：

3、它適合于大部分金屬及其合金，清洗可以去除氧化物、污染物、保護(hù)潤(rùn)滑劑、加工過(guò)程中的潤(rùn)滑劑等，特別是不耐溶劑的基底材料，而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗；

4、等離子清洗是一種干式清洗，不需要清潔液或其它化學(xué)溶液，不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等處理措施，清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，清潔度高；

5、在完成清洗去污的同時(shí)，可以除去晶間腐蝕，也可以使如折皺、裂紋等缺陷暴露和除去凹凸部分，在清洗過(guò)程中還能改變材料本身的表面性能；

6、等離子清洗通過(guò)控制工藝參數(shù)，可以在不損傷基材表面的情況下，有效去除污染物。

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)產(chǎn)品介紹：

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)主要用于集成電路模塊制造中除污染物的去除，其清洗工件主要為引線框架、集成電路基板等，同時(shí)還要有較高的工作效率。系統(tǒng)采用全自動(dòng)運(yùn)行方式，可與上下游生產(chǎn)工序連線，滿足器件封裝行業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)要求，徹底去除污物尺寸小于1μm的微殘留顆粒和有機(jī)薄膜，大幅度改善表面性質(zhì)，提高后續(xù)工序中如焊接、封裝、粘結(jié)的可靠性，從而保證電子產(chǎn)品在惡劣環(huán)境狀況下的高精度和高可靠性。

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)如圖二所示，總體分為四個(gè)部分：設(shè)備主體、上下料系統(tǒng)、物料傳輸系統(tǒng)和等離子清洗系統(tǒng)。

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)

半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)是一種清潔環(huán)保高效的清洗設(shè)備，在線式等離子清洗機(jī)清洗倉(cāng)體較普通真空等離子清洗機(jī)要小，抽真空和清洗完平衡倉(cāng)體壓強(qiáng)用時(shí)更短，且在線清洗從上料到清洗完成整個(gè)過(guò)程都是自動(dòng)完成，所以清洗的效率提升明顯。與現(xiàn)有的離線式等離子清洗設(shè)備相比，半導(dǎo)體在線式等離子清洗機(jī)具有以下優(yōu)勢(shì)：1．自動(dòng)化程度高，適應(yīng)范圍廣，適于規(guī)?；a(chǎn)。2．清洗效率高，設(shè)備潔凈度高，無(wú)人為因素污染。

以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于在線式等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用及其優(yōu)勢(shì)的介紹，隨著市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體集成電路類產(chǎn)品的可靠性和成品率的要求的不斷提高，及市場(chǎng)規(guī)模的不斷擴(kuò)大，原有的離線式等離子清洗工藝已經(jīng)逐漸無(wú)法滿足目前的要求。在線式的等離子清洗工藝成為提高生產(chǎn)效率的重要手段。

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