抽屜式UV紫外臭氧清洗機(jī)NE-UV01擁有工業(yè)級(jí)別的清洗效率和效果，適用小型基片清洗，如液晶面板，ITO，F(xiàn)TO，光學(xué)玻璃，OLED，LCD，硅片，陶瓷，金屬片，聚合物，硅膠等表面清洗，用于清洗產(chǎn)品的表面有機(jī)物，即進(jìn)行表面改質(zhì)，從而獲得較好的親水性。
產(chǎn)品原理：
UV紫外臭氧清洗機(jī)所選用的雙波長(zhǎng)紫外(TUV)燈，其實(shí)質(zhì)是低壓汞蒸汽放電燈，它可以發(fā)射短波紫外輻射，波長(zhǎng)主要集中在253．7nm，同時(shí)還會(huì)發(fā)射少量波長(zhǎng)為184．9nm的紫外線。這兩種波長(zhǎng)的紫外線對(duì)應(yīng)的光子能量分別為472kJ/mol和647kJ/mol。一般情況下，紫外線的光子能量接近或者大于有機(jī)物分子的結(jié)合能，因此可以直接切斷絕大多數(shù)分子的結(jié)合。
紫外臭氧清洗機(jī)主要是利用低壓汞燈產(chǎn)生的紫外光與空氣中的氧氣發(fā)生反應(yīng)產(chǎn)生臭氧，臭氧又可以進(jìn)一步與紫外作用產(chǎn)生活性氧自由基，而活性氧自由基可以對(duì)材料表面進(jìn)行清潔和改性處理，如提高表面張力，改善聚合物的潤(rùn)濕性。
具體反應(yīng)為:UV照射材料表面時(shí)發(fā)射的短波紫外線會(huì)分解O2，形成具有強(qiáng)氧化能力的O3，聚合物表面的有機(jī)物和O3在UV照射下，會(huì)分解出一些極易揮發(fā)的氣體(如H2O、CO2等)。
只有UVC段的紫外光與空氣中的氧氣發(fā)生作用時(shí)才會(huì)產(chǎn)生臭氧。一般波長(zhǎng)為185nm的紫外光與空氣中的氧氣發(fā)生作用時(shí)產(chǎn)生臭氧的效率最高，臭氧會(huì)進(jìn)一步與波長(zhǎng)為254nm的紫外光發(fā)生作用產(chǎn)生活性氧自由基。紫外臭氧改性處理是波長(zhǎng)為185nm與254nm的紫外光共同作用的結(jié)果。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
材質(zhì)：機(jī)身整體采用不銹鋼材料，耐酸堿、防腐蝕，美觀大方
結(jié)構(gòu)：抽屜式樣品臺(tái)，取、放基板簡(jiǎn)單、方便
氣路：預(yù)留進(jìn)氣接口，豐富設(shè)備的清洗種類
保護(hù)：抽屜開合與UV燈工作互鎖，避免紫外線傷害
計(jì)時(shí)：按鍵定時(shí)器，數(shù)顯倒計(jì)時(shí)，放便直觀
操作：清洗工作進(jìn)程可以任意時(shí)間手動(dòng)終止
配件：可選臭氧中和器，避免臭氧傷害
排風(fēng)：自帶臭氧排風(fēng)系統(tǒng)，12.5cm 直徑出風(fēng)口，配置風(fēng)管及緊固件。
產(chǎn)品應(yīng)用：
■ 在進(jìn)行薄膜沉積之前先進(jìn)行基片清洗。清除浮渣和穩(wěn)定化處理光刻膠。超高真空度密封。
■ 清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽(yáng)能面板，冷軋鋼，慣性引導(dǎo)零件和 GaAs 芯片
■ 清潔焊劑，混合電路以及平板 LCD 顯示器
■ 增強(qiáng)塑料表面的鍍膜的粘附性
■ 基片終測(cè)后墨跡清楚
■ 平板顯示器/液晶顯示器
■ 去除光刻機(jī)臺(tái)上的光刻膠殘留物
■ 在電路板封裝和打片之前清洗）
■ 增強(qiáng)表面親水特性
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清洗波段 |
185nm和254nm |
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距離UV燈3-5mm平均光強(qiáng) |
28~32mW/cm² |
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燈管 |
雙波低壓汞燈 |
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燈管功率 |
150W |
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照射高度 |
20-100mm，可通過托盤四邊螺母調(diào)節(jié)高度 |
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托盤外型尺寸 |
250mm（W）×300mm（D）×260mm（H） |
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外形尺寸 |
350W*400L*350H (mm) |
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電源 |
220V，1.5A，300W |
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
133-8039-4543